substance painter 2021是一款由 allegorithmic公司官方制作的软件，它是一款能实时绘制出3D贴图的绘图工具，它为用户提供了一些非常新奇的功能，比如粒子笔刷这个智能画笔，可以模拟自然粒子下落，粒子的轨迹形成纹理。与此同时，最实在的是该软件中的工作流是非破坏性的，即用户可以根据自己的需要自由地进行任意尝试；如果你制作出了不喜欢和不想要的内容，那也没关系，可以随意跳回或说撤销到上一阶段重新制作，从而无论要试怎样尝试，都可以大胆地跳回或说撤销到上一阶段重新制作，这样无论要试怎样尝试都能大胆地进行，反正要试怎样的尝试都可以大胆尝试。

此外，这次全新的 substancepainter 2021相比于上一个版本，引入了一些新功能和改进，那么这些功能中有什么变化？第一个要介绍的是全新的几何遮盖，同时它也是无干扰的，不仅可以在图层上新的几何图形蒙版，还可以自动地在图层堆栈中的任意层上编辑几何图形的蒙版属性，通过网格名或 UV平铺进行操作，通过属性来遮盖几何体等等操作，总之，通过它可以很好地隐藏几何体之前无法访问的表面，从而避免将物体分割成多个“纹理集”。除了这些之外，在这个版本中还提供了新的复制和粘贴层叠效果、添加 UV贴片的描述、新的层叠缩略图、图层堆栈中改进的“几何图形的蒙版”退出、 Iray中新的 Nvidia RTX 3000支持等功能，这个版本还增加了三个新的针迹工具，可以用来创建复杂的图案和逼真的针迹，非常强大。

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substance painter 2021的新功能：

一、新几何遮罩
几何蒙版是图层堆栈中的一个新蒙版工具，它可以根据网格名称或UV贴图隐藏几何。它是先前命名的UV Tile Mask的改进，它基于UDIM编号掩盖了几何形状。
与常规绘画（或使用“多边形填充”时）相比，此新工具是一种更好的掩盖几何图形的方法，因为它受益于多项引擎优化。它也是非破坏性的，因为它不存储几何信息（如面或顶点），而是存储网格名称或UV Tile号，因此重新导入网格不会破坏蒙版。另一个好处是，隐藏几何体可以在“纹理集”内以前无法访问的表面上绘画，从而避免了将对象拆分为多个“纹理集”的需要。

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1、图层上
的新几何图形蒙版几何图形蒙版可在图层堆栈中的任何图层上自动使用。默认情况下，它不起作用，这意味着该图层是完全可见的。
几何蒙版具有其自己的上下文菜单，该菜单可以快速选择或取消选择其所有项目，也可以将其值复制到另一层。

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2、编辑几何图形蒙版属性
几何图形蒙版与其他图层的上下文遵循相同的逻辑（例如，编辑蒙版或实例化属性）。要进入几何图形蒙版编辑模式，只需单击图层右侧的虚线正方形即可。要退出几何图形蒙版，请单击同一层的内容或油漆蒙版。

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3、通过网格名称或UV平铺进行
遮罩在“几何遮罩”属性的顶部是一个下拉菜单，用于控制遮罩模式。可以根据“ UV贴图”编号或“网格名称”进行选择。仅在项目不使用UV Tile工作流程的情况下，此下拉列表将被禁用并设置为网格名称。

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4、通过属性遮罩几何体
编辑“几何遮罩”时，属性窗口将基于与当前“纹理集”相关的几何体显示网格名称（或UV贴砖）的列表。
列表上方的数字表示在可用总数中未遮罩的网格/ UV瓷砖数。
数字旁边的菜单提供了快速控制，可以选择全部或不选择任何项目，甚至可以反转当前选择。
下面的列表定义了哪些项目被屏蔽。像应用程序中的其他列表一样，可以单击并拖动以一次启用/禁用多个项目，或者使用ALT + Click来隔离项目。

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5、通过视口蒙版几何体
也可以在2D和3D视图中更改“几何体蒙版”选择。只需将鼠标移到应该可见/隐藏的部分上，然后单击它以切换其状态。编辑几何图形蒙版时，显示的蒙版几何具有灰色和对角线效果。也可以通过单击并拖动以一次选择多个项目来进行矩形选择。

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6、绘制隐藏/无法访问的几何图形。
 在“几何图形蒙版”中选择要遮罩的几何图形之后，可以启用视口顶部的“隐藏/忽略排除的几何图形”按钮（或通过按ALT + H快捷键）。启用后，将隐藏排除的几何图形（以及其他“纹理集”），以仅显示当前图层包含/可绘制的几何图形。使用此选项可以绘制以前被阻塞或无法到达的区域。此选项也适用于任何种类的层。

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二、层堆栈效果的新复制和粘贴
现在，可以像常规图层一样在图层和图层堆栈之间复制效果。
现在还可以进行多选，以提供一次复制和粘贴多种效果的可能性。
为方便起见，从图层上的蒙版复制或移动一种效果但没有一个效果会自动添加一个效果。这是因为来自图层内容和蒙版的效果彼此不兼容。这意味着将效果从蒙版复制到图层的内容中将自动切换到蒙版（或创建一个蒙版）。

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1、通过上下文菜单复制和粘贴
右键单击“纹理集”的图层堆栈中的任何效果，然后选择剪切或复制动作。然后再次右键单击任何图层，然后选择粘贴以移动或创建所需效果的副本。我们还借此机会重做了上下文菜单并提供了更多功能：

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2、使用键盘快捷键复制和粘贴与
任何图层一样，键盘快捷键CTRL + C（复制）/ CTRL + X（剪切）和CTRL + V（粘贴）可用于根据当前选择复制效果。与图层一样，效果会插入到当前选择的上方。

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3、使用键盘快捷键快速复制效果
使用CTRL + D复制当前选择或按住ALT并拖动任何效果以将其复制到所需位置：

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4、跨层移动效果
除了复制和复制，现在还可以通过简单地将效果从一层拖放到另一层来移动效果：

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三、新的一般功能
此版本中进行了一些改进：
1、每添加UV瓷砖的描述，现在可以添加描述为通过纹理集列表每个UV瓷砖。这使项目更易于导航，尤其是在导出和烘焙时，因为在这些上下文中也可以看到描述。
要添加或编辑描述，只需在“纹理集列表”窗口中单击“ UV拼贴”，然后进入“纹理集设置”窗口进行编辑。

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2、新的层堆栈缩略图优化了层堆栈缩略图。现在将显示用于填充层的材料球，即使在使用“ UV Tiles”工作流程时，也可以更轻松地导航和查看每个层的主要属性。缩略图是根据图层信息生成的，但并未考虑效果，以避免过于频繁地重新计算。

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3、图层堆栈中改进的“几何图形蒙版”退出
如果没有图层蒙版，则使用图层堆栈中的文件夹证明很难退出“几何图形蒙版”（以前称为“ UV平铺蒙版”）。这是因为除了选择另一层之外，没有其他上下文可以打开。现在可以单击文件夹缩略图以退出几何蒙版。在编辑“几何图形蒙版”时，还可以将材料或智能材料从架子上拖放到视口中。

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4、现在，可以使用Alt +鼠标单击来隔离烘焙窗口中的网格图列表，以隔离要烘焙的特定贴图，而不必手动排除它们。相同的快捷方式可用于重新启用所有网格图。

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5、新烘焙当前的“纹理集”按钮
在“烘焙”窗口的底部添加了一个新按钮，可以快速，轻松地重新烘焙纹理集。使用此按钮不会影响先前定义的自定义选择，而是会烘焙整个“纹理集”（包括所有可用的UV平铺，如果有的话）。

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四、新的物质引擎更新
Substance Engine已更新至其版本8，以支持最新的Substance文件格式及其功能。

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五、Iray中新的Nvidia RTX 3000支持
该iray渲染已经更新到最新版本，现在支持全新的NVIDIA的GPU安培（RTX 3000系列的Quadro和A系列）。

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六、新内容
此版本中添加了三个新的针迹工具，可用于创建复杂的图案和逼真的针迹。要找到它们，只需在架子的“工具”部分中查找：
1、针迹情结
2、十字绣线缝
3、直缝

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建议激活上下文工具栏中的“懒惰鼠标”功能，以提高绘制针迹的质量。
以下是这些新工具中包含的所有预设的概述：

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七、新的Python功能
Python API接受了一些新功能。还对文档进行了重新设计，尤其是其示例，以使其更易于理解和学习API。

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1、资源和货架管理
资源模块已得到改进，现在可以：
创建和管理货架。
搜索或导入货架和项目中的资源。
知道是否正在搜寻架子（允许知道何时可以使用资源）。
将自定义缩略图分配到架子中的资源。
2、UV Tiles信息
现在可以查询纹理集的UV Tile列表。例如，这打开了在特定范围的UDIM磁贴上创建自定义导出的可能性。
3、项目版本状态
已添加新功能和事件，以了解是否可以编辑项目。这对于了解是否正在进行计算并且无法修改项目的属性很有用。